Scrubber尾氣處理裝置

半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:
1 易燃性氣體如SiH4 H2等
2 毒性氣體如AsH3,PH3等
3 腐蝕性氣體如HF,HCl 等
4 溫室效應氣體如CF4,NF3等
由于以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型中央廢氣處理系統.但此系統僅以水洗滌廢氣.故其應用范圍僅限于處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.

Scrubber尾氣處理裝置半導體工藝廢氣處理方式
依據廢氣處理的特性,在處理可分為四種處理方式:
1 水洗式(處理腐蝕性氣體)
2 氧化式(處理燃燒性,毒性氣體
3 吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣
4 等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)
各類型之處理皆有其優缺點及其適用范圍. 處理方式水洗時，設備便宜處理方式簡單，僅能處理水溶性氣體；電熱水洗式應用范圍較水洗時，運轉成本高；干式處理效率佳，不適用于容易堵塞或氣體流。